半导体芯片行业用玻纤烧结滤芯
产品概述
产品特点
超精密过滤性能：可精准过滤 0.01 - 1 微米的颗粒杂质、胶体、微生物及金属离子，能有效拦截光刻胶中的微小凝胶颗粒、超纯水中的硅颗粒等，过滤效率高达 99.999%，满足半导体芯片制造中对超净环境和流体纯度的严苛要求，保障芯片制造的良品率。
极低的溶出物与析出物：采用高纯玻璃纤维原料和无添加烧结工艺，滤芯在与超纯水、化学试剂等介质接触时，几乎无金属离子、有机物等溶出，避免对芯片制造过程造成污染，确保芯片性能稳定可靠。
化学兼容性优异：对芯片制造过程中常用的氢氟酸、硫酸、硝酸、显影液、蚀刻液等强腐蚀性化学试剂具有良好耐受性，能在极端化学环境下长期稳定工作，不与介质发生化学反应，保障过滤系统的持续稳定运行。
高洁净度与低吸附性：滤芯表面光滑平整，不易吸附污染物，且在生产过程中经过严格的清洗和洁净处理，可有效避免滤芯自身携带杂质。同时，低吸附性有助于减少过滤过程中流体成分的损耗，保证工艺流体的纯度和性能。
良好的机械稳定性：具备足够的机械强度，能承受芯片制造过程中过滤系统的压力波动和流体冲击，在高压、高流速工况下不易变形或破损，确保长期稳定运行，减少因滤芯故障导致的生产中断风险。
应用领域
光刻工艺过滤：在光刻胶涂覆、显影、蚀刻等环节，用于过滤光刻胶、显影液、蚀刻液，去除其中的颗粒杂质和凝胶物，防止这些杂质在芯片表面形成缺陷，保证光刻图案的精准性和清晰度，提高芯片的分辨率和性能。
超纯水系统过滤：作为超纯水生产和输送过程中的关键过滤元件，去除水中的微小颗粒、细菌、热源、金属离子等杂质，确保超纯水的电阻率和洁净度符合芯片制造要求，为芯片清洗、蚀刻等工艺提供高品质水源。
化学试剂输送过滤：对芯片制造过程中使用的各种化学试剂进行过滤，如用于掺杂的磷源、硼源试剂，以及清洗用的各种酸碱溶液等，去除其中的杂质和污染物，防止化学试剂污染芯片，影响芯片的电学性能和可靠性。
气体过滤：在芯片制造的气体供应系统中，用于过滤压缩空气、氮气、氩气等工艺气体，去除气体中的尘埃颗粒、油雾、水分等杂质，防止气体污染芯片表面，保证芯片制造环境的洁净度，避免气体杂质对芯片性能产生不良影响。
品牌优势
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实力雄厚，源头厂家
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研发生产，精工品质
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